发明名称 Proben-Vorbereitungseinrichtung und Proben-Vorbereitungsverfahren
摘要 Es ist eine Einrichtung zum Vorbereiten einer Probe bereitgestellt, welche enthält: eine Probenstufe, welche eine Probe hält; eine Säule eines fokussierten Ionenstrahls, welche einen fokussierten Ionenstrahl an die gleiche Probe anlegt und die Probe verarbeitet; und eine Bestrahlungsbereich-Einstelleinheit, welche einen Bestrahlungsbereich eines fokussierten Ionenstrahls einstellt, welcher einen ersten Bestrahlungsbereich, welcher zur Ausbildung eines Beobachtungsfeldes verwendet wird, welches mit einem Elektronenstrahl bestrahlt wird, um Rückstreu-Elektronen zu erfassen, und einen zweiten Bestrahlungsbereich, welcher zur Ausbildung einer geneigten Fläche verwendet wird, welche mit Bezug auf die senkrechte Linie des Beobachtungsfeldes bei einem Winkel von 67,5° oder mehr und weniger als 90° geneigt ist, umfasst.
申请公布号 DE102013102659(A1) 申请公布日期 2013.09.19
申请号 DE201310102659 申请日期 2013.03.15
申请人 HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORP. 发明人 MAN, XIN
分类号 H01J37/30;G01N1/28;G01N23/225;H01J37/26 主分类号 H01J37/30
代理机构 代理人
主权项
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