发明名称 |
Method of measuring ionic distribution function in a low-temperature plasma, measuring system for making the method and a probe for such measuring system |
摘要 |
<p>Zpusob merení iontové distribucní funkce v nízkoteplotním plazmatu diagnostikového plazmatického objektu (4) v merícím systému aplikovaném na plazmochemickém reaktoru (1), který je vybaven napájecím zdrojem (2) napojeným na výbojovou elektrodu (21) a referencní elektrodu (22), je v nem zabudována sonda (3) opatrená sbernou elektrodou (301) a který je propojen na rídicí a merící jednotku (5), kde podstata resení spocívá v tom, ze po primárním nastavení parametru mericího systému pomocí proudových hodnot zdroje (8) referencního napetí je na sberné elektrode (301) snímána volt-ampérová charakteristika iontové slozky proudu vzniklého napájením výboju a procházejícího obvodem: plazmatický objekt (4) - sberná elektroda (301) - proudový prevodník (7) - zdroj (8) referencního napetí - referencní elektroda (22), z níz je vyhodnocením v rídicí a mericí jednotce (5) stanovena iontová distribucní funkce plazmatického zdroje (4). Dále je podstatou resení merící systém pro provádení tohoto zpusobu a konstrukce sondy (3) pro tento merící systém.</p> |
申请公布号 |
CZ20110890(A3) |
申请公布日期 |
2013.07.10 |
申请号 |
CZ20110000890 |
申请日期 |
2011.12.28 |
申请人 |
FYZIKALNI ·STAV AV CR, V.V.I.;ASTAV FYZIKY PLAZMATU AV CR, V. V. I. |
发明人 |
ADAMEK PETR;CADA MARTIN;HUBICKA ZDENEK;JASTRABIK LUBOMIR;ADAMEK JIRI;STOECKEL JAN |
分类号 |
H05H1/00;G01N27/62;G01N27/70;G01R19/00 |
主分类号 |
H05H1/00 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|