基于全反射原理的光学元件激光预处理方法及装置

摘要

本发明公开了一种基于全反射原理的光学元件激光预处理方法及装置，具体是将激光光束从透明光学元件的一侧面入射到透明光学元件内部并照射到透明光学元件前表面的处理点1，在处理点1处,激光光束的入射角度满足光学全反射条件，经由全反射反射至元件后表面的处理点2处,依此类推,激光光束在元件内部前后表面之间进行多次全反射,直至最后从透明光学元件另一侧面出射。本发明利用激光光束在透明光学元件样品内部进行多次全反射来回收激光能量并重复利用，并且同时对光学元件前亚表面、后亚表面、前后表面以及体内特性进行并行处理，从而大幅提高激光预处理的速度。

主权项

基于全反射原理的光学元件激光预处理方法，其特征在于：将激光光束从透明光学元件的一侧面入射到透明光学元件内部并照射到透明光学元件前表面的处理点1，在处理点1处, 激光光束的入射角度满足光学全反射条件，经由全反射反射至透明光学元件后表面的处理点2处,依此类推,激光光束在透明光学元件内部前后表面之间进行多次全反射,直至经过处理点N之后从透明光学元件另一侧面出射；即激光光束对样品前后表面的处理点1至N以及样品内部光束经过的区域都进行了辐照处理。