一种在钛合金表面制备Ag-Ti-O纳米管抗菌薄膜的方法

摘要

一种在钛合金表面制备Ag-Ti-O纳米管抗菌薄膜的方法，属于纳米管薄膜制备技术领域，特征是操作步骤为：将预处理好的试件放入脉冲直流磁控溅射镀膜设备的样品台上，将平面TiAg合金靶与样品相对放置；通入氩气到真空室，对真空室和预处理好的试件进行溅射清洗；清洗完成后，在试件表面镀TiAg合金膜层；然后将合金膜层进行阳极氧化处理制备Ag-Ti-O纳米管薄膜。该方法制备的薄膜膜基结合力良好，具有长效抗菌性能和优良的生物相容性。

主权项

一种在钛合金表面制备Ag‑Ti‑O纳米管抗菌薄膜的方法，其特征在于操作步骤为：(1)钛合金试件预处理：将钛合金试件进行机械研磨、抛光，然后顺序浸入丙酮、酒精和蒸馏水中进行超声波清洗；(2)将预处理好的钛合金试件(10)放入脉冲直流磁控溅射镀膜设备的真空室(1)内可旋转的样品台(8)上，将永磁体(2)安放在真空室(1)的外表面上，将作为薄膜中Ti和Ag来源的平面TiAg合金靶(3)安装在永磁体(2)的背面的真空室(1)内，调整TiAg合金靶(3)与试件(10)之间的距离为75‑95cm；(3)先用抽真空装置(5)将真空室(1)的气压通过出气管孔(4)抽至5.0×10‑3Pa，然后通过进气管孔(9 )通入流量为60sccm的氩气到真空室(1)内，当真空室(1)气压稳定在4.8‑5.2Pa时，打开偏压电源(7)并将偏压缓慢加至‑800～‑900V对真空室(1)和试件(10)表面进行溅射清洗，清洗时间为15‑30min；(4)清洗完成后，打开抽真空装置(5)并通过出气管孔(4)抽出残气，然后通过进气孔(9)调节氩气流量至80sccm，使真空室(1)气压保持在8.0‑8.5×10‑1Pa，开启TiAg合金靶溅射电源(6)并将电压缓慢加至350‑380V，调节电流至0.8‑1.2A，然后开启偏压电源(7)并调整偏压至80‑120V，在试件(10)表面镀Ti‑Ag复合膜层，镀膜时间为4h；(5)将含2.5‑3.5wt%NH4F、1‑1.5vol%H2O的乙二醇电解液(15 )放入到阳极氧化设备的电解池(12)内，将辅助电极(11)和经过镀膜处理的试件(10)固定在支架(13)的下端浸入到电解液以内，然后打开直流电源(14)对经过镀膜处理的试件(10)进行阳极氧化处理，来制备Ag‑Ti‑O纳米管抗菌薄膜，氧化电压为25‑35V，氧化时间为3‑5h。