发明名称 薄膜电晶体液晶显示装置之蚀刻组成物(二)
摘要 本发明系关于薄膜电晶体液晶显示装置之蚀刻组成物,特别是含有磷酸、硝酸、醋酸、[H+]离子浓度调节剂及水的薄膜电晶体液晶显示装置之蚀刻组成物。;本发明之蚀刻组成物使用同一组成物,将构成薄膜电晶体液晶显示装置之TFT(thin film transistor)的闸极线材料Mo/Al-Nd双层膜,仅靠湿式制程在不发生下部膜Al-Nd的底切(undercut)现象下进行蚀刻,藉而既可获得优良的斜面,同时具有亦可在源极/汲极(source/drain)线材料Mo单层膜形成优良的轮廓之效果。
申请公布号 TWI385804 申请公布日期 2013.02.11
申请号 TW094133525 申请日期 2005.09.27
申请人 东进世美肯有限公司 南韩 发明人 李骐范;曹三永;李敏键;刘智勇;尹载皙
分类号 H01L29/786 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址 南韩