用于化学研磨装置的研磨头及其化学研磨装置

摘要

一种用于化学研磨装置的研磨头，包括：具有独立研磨子区域的同心环形研磨区域，所述同心环形研磨区域以所述研磨头的圆心为中心并对称分布，所述同心环形研磨区域内分别设置独立研磨子区域；施力装置，所述施力装置作用在所述研磨头上，并分别独立控制所述各研磨子区域的受力。一种具有所述的研磨头的化学研磨装置进一步包括转轴；研磨台；研磨垫。利用本发明所述的研磨头，并在薄膜较厚的区域施加较大的压力，而在薄膜较薄的区域施加较小的压力便可实现晶圆内非对称研磨，从而提高对薄膜厚度在所述晶圆内呈非对称性分布的研磨均一性。本发明所述的研磨头不仅操作简单，使用方便，便于推广，而且实用性强，能满足不同产品的研磨需要。

主权项

一种用于化学研磨装置的研磨头，其特征在于，所述用于化学研磨装置的研磨头包括：具有独立研磨子区域的同心环形研磨区域，所述同心环形研磨区域以所述研磨头的圆心为中心并对称分布，所述同心环形研磨区域内分别设置独立研磨子区域；施力装置，所述施力装置作用在所述研磨头上，并分别独立控制所述各研磨子区域的受力。