清洁装置和浸润微影装置

摘要

本发明揭示一种用于清洁一浸润微影装置之一基板或组件的清洁装置。该清洁装置可包含一电浆自由基源、一管道及一自由基限制系统。该电浆自由基源可提供一自由基流动。该管道可将自由基自该电浆自由基源供应至该待清洁表面。该自由基限制系统可引导该等自由基以清洁该表面之一区域化部分。该清洁装置可包含一旋转器且可经组态以清洁一基板边缘。本发明亦揭示一种包含用于清洁一或多个表面之该装置的浸润微影装置。该浸润微影装置可包含：一基板台，该基板台用于支撑一基板；及一流体限制结构，该流体限制结构用于将浸润流体限制于一投影系统与基板台及/或基板之间。;本发明揭示一种浸润微影装置。