| 摘要 |
<p>본 발명은 선택적 원자층 증착방법(Selective Atomic Layer Deposition)을 이용하여 후면 접촉구조를 형성함으로써, 간단한 공정에 의하여 고효율 태양전지를 제조할 수 있는 고효율 태양전지 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명의 고효율 태양전지 제조방법에서 후면 점 접촉 구조를 형성하는 단계는, 1) 후면 점접촉 구조가 형성될 위치에 폴리머막 패턴을 형성하는 단계; 2) 선택적 원자층 증착방법을 이용하여 후면 보호막을 형성하는 단계; 3) 상기 폴리머막 패턴을 제거하는 단계; 4) 후면 금속막을 형성하는 단계; 5) 열처리를 이용하여 옴접촉(Ohmic Contact)을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.</p> |
