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发明名称
涂布液之制造方法及偏光膜之制造方法
摘要
本发明提供一种可获得单体穿透率以及偏光度高的溶致液晶化合物之偏光膜的涂布液、以及偏光膜。本发明之涂布液的特征在于:其系含有藉由盐析而单离之溶致液晶化合物与溶剂者,且涂布液之氯化物离子浓度为3×10[4]ppm以下。本发明之偏光膜系将上述涂布液流延成为薄膜状,且使溶致液晶化合物配向而获得。
申请公布号
TWI379891
申请公布日期
2012.12.21
申请号
TW097134912
申请日期
2008.09.11
申请人
日东电工股份有限公司
发明人
西口恭子;松田祥一;龟山忠幸
分类号
C09K19/24
主分类号
C09K19/24
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
日本
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