| 摘要 |
La présente invention concerne un procédé utile pour orienter la cristallisation d'un matériau sur une zone de surface d'au moins une face d'un substrat, comprenant au moins les étapes consistant à : i. déterminer, sur ladite face, la surface sur laquelle doit être formé le dépôt cristallin, dite zone d'intérêt, ii. déposer, sur ladite face et à la périphérie de ladite zone d'intérêt, au moins une particule dédiée à former un germe de cristallisation, iii. mettre en contact ladite particule avec au moins ledit matériau à cristalliser, iv. exposer au moins ledit point de contact entre ladite particule et ledit matériau à cristalliser à des conditions favorables à la cristallisation dudit matériau, ledit procédé étant caractérisé en ce que la surface de ladite particule est en partie fonctionnalisée par au moins un groupement à affinité pour ledit matériau à cristalliser, ledit groupement possédant au moins un motif de nature chimique identique ou apparentée à au moins une partie de la structure chimique dudit matériau à cristalliser, et en ce que ladite particule est déposée en étape ii. de manière à exposer ledit groupement face à la zone à cristalliser. |
