发明名称 半导体记忆装置
摘要 本发明提供一种非挥发性半导体记忆装置,其具有适合记忆胞阵列配置之低电阻闸极。于一种分裂闸极构造之非挥发性半导体记忆装置中,于藉由侧壁间隔片形成记忆体闸极时,藉由多晶矽形成该记忆体闸极后置换为矽化镍。藉此,可在不影响对选择闸极或扩散层之矽化物化下进行低电阻化。
申请公布号 TWI370522 申请公布日期 2012.08.11
申请号 TW093132589 申请日期 2004.10.27
申请人 瑞萨电子股份有限公司 日本 发明人 久本大;安井感
分类号 H01L21/8247 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本