发明名称 一种无取向硅钢薄带及其制备方法
摘要 本发明属于冶金技术与材料科学领域,具体涉及一种无取向硅钢薄带及其制备方法。本发明所涉及的无取向硅钢薄带,其化学成分按重量百分比计为:Si:3.0~3.6%,Al:0.6~1.0%,Mn:0.1~0.6%,N≤0.005%,S≤0.004%,P≤0.02%,O≤0.003%,C≤0.005%,余量为Fe。无取向硅钢在真空冶炼炉中进行冶炼;然后进行双辊薄带铸轧;铸带在1100℃~1150℃常化3min~5min;预热150℃~300℃进行冷轧;最后进行再结晶退火。该制备方法工艺简单,能耗低,成材率高,产品磁性能优良。
申请公布号 CN101967602B 申请公布日期 2012.08.08
申请号 CN201010510464.9 申请日期 2010.10.19
申请人 东北大学 发明人 王国栋;刘振宇;张晓明;李成刚;曹光明;张婷;张元祥
分类号 C22C38/06(2006.01)I;C22C33/04(2006.01)I;C21D8/12(2006.01)I 主分类号 C22C38/06(2006.01)I
代理机构 沈阳东大专利代理有限公司 21109 代理人 李在川
主权项 一种无取向硅钢薄带的制备方法,其特征在于步骤如下:(1)冶炼:在真空冶炼炉中冶炼合金,得到化学成分按重量百分比计为:Si:3.0~3.6%,Al:0.6~1.0%,Mn:0.1~0.6%,N ≤0.005%,S ≤0.004%,P ≤0.02%,O ≤0.003%,C ≤0.005%,余量为Fe的液态无取向硅钢;(2)铸轧:将上述的液态无取向硅钢在氩气保护气氛下进行铸轧,铸轧时辊缝宽度为2mm~2.5mm,拉带速度50m/min~120m/min,形成无取向硅钢铸带,浇铸温度1510℃~1560℃;(3)常化:对上述的无取向硅钢铸带进行常化处理,常化温度1100℃~1150℃,常化时间3~5min,然后在空气中自然冷却;(4)酸洗:对常化后的无取向硅钢铸带进行酸洗去除氧化铁皮;(5)冷轧:对去除氧化铁皮后的无取向硅钢铸带进行冷轧;(6)退火:对冷轧后的无取向硅钢进行再结晶退火工艺得到无取向硅钢薄带,厚度为0.5mm的无取向硅钢薄带鉄损值P15/50在2.3~2.7W/kg,磁感应强度在1.74T以上。
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