发明名称 | 一种用于制备微纳结构硅的系统 | ||
摘要 | 本实用新型是一种用于制备微纳结构硅的系统,特点是:反射镜、连续可调衰减片、光快门、透镜和三维调整台固定在光学平台上,不锈钢长腔真空室安装在三维调整台上,不锈钢长腔真空室前端有窗片,其内部的后表面粘贴有硅片,外部与真空室充气管道连接,所述管道上设置有两个微调阀,光快门通过导线与脉冲计数器连接。通过连续可调衰减片调节入射激光功率,配合使用脉冲计数器准确控制蚀刻的脉冲数量,并利用微调阀门调节真空室内气体压强,最终实现各种不同形貌的微纳结构硅材料的形成。本实用新型生产工艺简单,操作便捷,所得微纳结构的硅材料具有跨度超过2500nm的吸收光谱,且反射率低于10%。 | ||
申请公布号 | CN202272729U | 申请公布日期 | 2012.06.13 |
申请号 | CN201120124845.3 | 申请日期 | 2011.04.26 |
申请人 | 上海理工大学 | 发明人 | 吴文威;朱亦鸣;彭滟;温雅;陈麟;庄松林 |
分类号 | B81C1/00(2006.01)I | 主分类号 | B81C1/00(2006.01)I |
代理机构 | 上海东创专利代理事务所(普通合伙) 31245 | 代理人 | 宁芝华 |
主权项 | 一种用于制备微纳结构硅的系统,包括钛宝石飞秒激光器、反射镜、连续可调衰减片、光快门、透镜、不锈钢长腔真空室和三维调整台,其特征在于:反射镜、连续可调衰减片、光快门、透镜和三维调整台依次固定在光学平台上,不锈钢真空室安装在三维调整台上,所述的不锈钢真空室前端设置有窗片,不锈钢长腔真空室内部的后表面粘贴有硅片,不锈钢长腔真空室与外部的真空室充气管道连接,所述的真空室充气管道上设置有两个微调阀,光快门通过导线与脉冲计数器连接。 | ||
地址 | 200093 上海市杨浦区军工路516号 |