发明名称 |
化学气相沉积法涂层装置 |
摘要 |
本实用新型创造涉及化学气相沉积法涂层装置。采用的技术方案是:包括反应炉,反应炉内设有支撑筒,支撑筒上端设有排气帽,反应炉和支撑筒之间为尾气通道,支撑筒内从上到下依次为沉积区、气体分配区和预热区;沉积区内:设有若干托盘),托盘上设有若干通气孔Ⅰ;气体分配区内:支架Ⅰ固定挡板,挡板上端安装至少三层隔板,支架Ⅱ固定隔板,隔板上设有若干通气孔Ⅱ;预热区内:安装若干层预热板,进气管的出口端与气体分配区相通,支撑筒在预热区部位的下端设有尾气入口,预热区的下端设有尾气出口。还设有加热炉,反应炉置于加热炉内。采用本实用新型创造的涂层装置,涂层均匀度高,具有较高的附着力,提高了产品的耐磨损性和耐缺损性。 |
申请公布号 |
CN202214415U |
申请公布日期 |
2012.05.09 |
申请号 |
CN201120312655.4 |
申请日期 |
2011.08.25 |
申请人 |
沈阳金研机床工具有限公司 |
发明人 |
朴万成;黄宇哲;李成哲;金哲男;金上万;李权星;王宏刚 |
分类号 |
C23C16/44(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/44(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳杰克知识产权代理有限公司 21207 |
代理人 |
金春华 |
主权项 |
化学气相沉积法涂层装置,包括反应炉(1),其特征在于:反应炉(1)内设有支撑筒(3),支撑筒(3)上端设有排气帽(2),支撑筒(3)内从上到下依次为沉积区(4)、气体分配区(5)和预热区(6);沉积区(4)内:设有若干托盘(41),托盘(41)上设有若干通气孔Ⅰ(42);气体分配区(5)内:支架Ⅰ(54)固定挡板(53),挡板(53)上端安装至少三层隔板(51),支架Ⅱ(52)固定隔板(51),隔板(51)上设有若干通气孔Ⅱ(55);预热区(6)内:安装若干层预热板(63),进气管(61)的出口端与气体分配区(5)相通,支撑筒(3)在预热区部位的下端设有尾气入口(62),预热区(6)的下端设有尾气出口(64)。 |
地址 |
110045 辽宁省沈阳市皇姑区陵东乡观音路 |