发明名称 |
一种光刻胶清洗剂 |
摘要 |
一种光刻胶清洗剂包括缓蚀剂和溶剂,其中缓蚀剂包括两类化合物:一类为烷基醇单芳基醚类化合物,另一类选自酚类化合物,羧酸、聚羧酸、羧酸酯、聚羧酸酯类化合物,酸酐、聚酸酐类化合物和/或膦酸、膦酸酯类化合物。 |
申请公布号 |
CN101523298B |
申请公布日期 |
2012.04.04 |
申请号 |
CN200780037460.X |
申请日期 |
2007.10.22 |
申请人 |
安集微电子(上海)有限公司 |
发明人 |
彭洪修;史永涛;刘兵 |
分类号 |
G03F7/42(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;C23G1/06(2006.01)I;C11D7/26(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/42(2006.01)I |
代理机构 |
上海翰鸿律师事务所 31246 |
代理人 |
李佳铭 |
主权项 |
一种光刻胶清洗剂,包含缓蚀剂和溶剂,其特征在于所述的缓蚀剂包含两类化合物:一类为烷基醇单芳基醚类化合物,另一类选自酚类化合物,羧酸、聚羧酸、羧酸酯、聚羧酸酯类化合物,酸酐、聚酸酐类化合物或膦酸、膦酸酯类化合物,其中,所述的烷基醇单芳基醚类化合物的含量为0.05~15wt%,所述的烷基醇单芳基醚类化合物为乙二醇单苯基醚、丙二醇单苯基醚、异丙二醇单苯基醚、二乙二醇单苯基醚、二丙二醇单苯基醚、二异丙二醇单苯基醚、乙二醇单苄基醚、丙二醇单苄基醚或异丙二醇单苄基醚。 |
地址 |
中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 |