发明名称 具有多感应区之电阻式触控盘
摘要
申请公布号 TWI357018 申请公布日期 2012.01.21
申请号 TW094108494 申请日期 2005.03.18
申请人 万国商业机器公司 发明人 艾斯比尔罗杰李
分类号 G06K11/06 主分类号 G06K11/06
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种用于一资料处理系统的触控盘,其至少包含:一表面;一第一导电薄膜,该第一导电薄膜位在该表面上方;一第一复数个非导电点状隔离片(electrically non-conductive spacer dots),该等第一复数个非导电点状隔离片位在该第一导电薄膜上方,其中该等第一复数个非导电点状隔离片具有一第一密度;一第二复数个非导电点状隔离片,该等第二复数个非导电点状隔离片位在该第一导电薄膜上方,其中该等第二复数个非导电点状隔离片具有一第二密度,且其中该第一密度与该第二密度不同;及一第二导电薄膜,该第二导电薄膜位在该等第一复数个非导电点状隔离片及该等第二复数个非导电点状隔离片上方。如申请专利范围第1项所述之触控盘,进一步包含:一第三膜层,该第三膜层位在第二导电薄膜上方,其中该表面为一陶瓷,其中该第三膜层为一弹性聚合物,且其中该第一导电薄膜及该第二导电薄膜为一金属氧化物。如申请专利范围第1项所述之触控盘,其中该第一密度系介于0.08至0.14的一范围。如申请专利范围第3项所述之触控盘,其中该第二密度系介于0.01至0.05的一范围。如申请专利范围第4项所述之触控盘,其中该等第二复数个非导电点状隔离片系布置于该第一导电薄膜上,以形成用于接收一使用者之签名的一矩形。如申请专利范围第4项所述之触控盘,其中该等第一复数个非导电点状隔离片环绕着该等第二复数个非导电点状隔离片。如申请专利范围第4项所述之触控盘,其中在该等第一及第二复数个非导电点状隔离片中之所有非导电点状隔离片具有相等的直径,且其中该第一复数个非导电点状隔离片与该第二复数个非导电点状隔离片具有一不同的点状隔离片间距。一种用于一资料处理系统的触控盘,包含:一第一触控盘部分,该第一触控盘部分具有一第一感应度,其中该第一感应度系至少藉由该第一触控盘部分中之第一复数个点状隔离片的一配置来决定;以及一第二触控盘部分,该第二触控盘部分具有一第二感应度,其中该第二感应度系至少藉由该第二触控盘部分中之第二复数个点状隔离片的一配置来决定;其中该第一感应度系与该第二感应度不同,因为该等第一复数个非导电点状隔离片之该配置与该等第二复数个非导电点状隔离片之该配置之间有所差异。如申请专利范围第8项所述之触控盘,其中该等第一复数个点状隔离片具有一第一密度,其中该等第二复数个点状隔离片具有一第二密度,且其中该第一密度系不同于该第二密度。如申请专利范围第9项所述之触控盘,其中该第一密度系比该第二密度更低,且其中该第一触控盘部分包含一签名区块(signature block)。如申请专利范围第9项所述之触控盘,其中该第一密度系比该第二密度更高,且及其中该第一触控盘部分包含在该第二触控盘部分四周的一周界(perimeter)。如申请专利范围第9项所述之触控盘,其中该第一密度以介于1.6至14的一范围之一倍数超过该第二密度。如申请专利范围第12项所述之触控盘,其中该密度系介于约0.08至0.14的一范围。如申请专利范围第8项所述之触控盘,其中在该等第一及第二复数个非导电点状隔离片中之所有非导电点状隔离片具有相等的直径,且其中该第一复数个非导电点状隔离片与该第二复数个非导电点状隔离片具有一不同的点状隔离片间距。如申请专利范围第8项所述之触控盘,其中该等第一复数个非导电点状隔离片之一者与该等第二复数个非导电点状隔离片之一者具有一不同的直径,其中该等第一复数个非导电点状隔离片具有一第一点状隔离片间距,其中该等第二复数个非导电点状隔离片具有一第二点状隔离片间距,且其中该第一点状隔离片间距等于该第二点状隔离片间距。如申请专利范围第8项所述之触控盘,其中该等第一复数个非导电点状隔离片之一者与该等第二复数个非导电点状隔离片之一者具有一不同的直径,且其中该等第一复数个非导电点状隔离片与该等第二复数个非导电点状隔离片具有一不同的点状隔离片间距。一种用于一资料处理系统的触控盘,其至少包含:一触控盘膜层,位于一第一导电薄膜上;一第二导电薄膜,位于一触控盘基材上;一第一物理构件,用以避免施加于该触控盘之一第一部分且小于一第一阈值的一力量让该第一导电薄膜与该第二导电薄膜之间产生一电性接触;以及一第二物理构件,用以避免施加于该触控盘之一第二部分且小于一第二阈值的一力量让该第一导电薄膜与该第二导电薄膜之间产生一电性接触,其中该等第一与该第二阈值系因为该等第一及第二物理构件之间的差异而不同。如申请专利范围第17项所述之触控盘,其中该第一物理构件包含形成于该第二导电薄膜上之一第一复数个电性绝缘点状隔离片,其中该第二物理构件包含形成于该第二导电薄膜上之一第二复数个电性绝缘点状隔离片。如申请专利范围第18项所述之触控盘,其中所有的该等第一复数个电性绝缘点状隔离片具有一第一点状隔离片直径,其中该等第一复数个电性绝缘点状隔离片具有一第一点状隔离片间距,且其中该等第一复数个电性绝缘点状隔离片具有该第一点状隔离片直径对该第一点状隔离片间距之一第一比值;及所有的该等第二复数个电性绝缘点状隔离片具有一第二点状隔离片直径,其中该等第二复数个电性绝缘点状隔离片具有一第二点状隔离片间距,且其中该等第二复数个电性绝缘点状隔离片具有该第二点状隔离片直径对该第二点状隔离片间距之一第二比值,且其中该第一比值系不同于该第二比值。如申请专利范围第19项所述之触控盘,其中该第一比值系介于0.01至0.05的一范围,且该第二比值系介于0.8至0.14的一范围之间。
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