发明名称 一种背光模组用光扩散片及其制作方法
摘要 本发明公开了一种背光模组用光扩散膜的制作方法,包括下列步骤:(1)在一基板的一侧表面制备具有粘性的固定层;(2)将微纳米结构尺寸的颗粒经所述固定层排布固定于所述基板表面;(3)将步骤(2)获得的带有表面微结构的基板作为电铸模板进行精密电铸,将微结构转移至电铸金属板上;(4)用步骤(3)获得的金属电铸片作为压印模板,经热压印或紫外压印至光扩散片材料上,制作获得光扩散片。本发明利用微纳米压印技术,在透明基材上压印微透镜结构,方法简单便捷,降低了扩散膜片制作成本,且特别适合制作超薄型结构,能有效减少背光模组的厚度,且具有良好的光学性能。
申请公布号 CN101737707B 申请公布日期 2012.01.11
申请号 CN200810235232.X 申请日期 2008.11.12
申请人 苏州维旺科技有限公司;苏州大学 发明人 申溯;庄孝磊;吴智华;方宗豹;周芳;陈林森
分类号 F21V5/00(2006.01)I;F21V5/04(2006.01)I;G02F1/13357(2006.01)I 主分类号 F21V5/00(2006.01)I
代理机构 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人 陶海锋
主权项 一种背光模组用光扩散片的制作方法,其特征在于,包括下列步骤:(1)在一基板的一侧表面制备具有粘性的固定层;(2)将微纳米结构尺寸的颗粒经所述固定层排布固定于所述基板表面,颗粒尺寸范围在10~200微米;(3)将步骤(2)获得的带有表面微结构的基板作为电铸模板进行精密电铸,将微结构转移至电铸金属板上;(4)用步骤(3)获得的金属电铸片作为压印模板,经热压印或紫外压印至光扩散片材料上,制作获得光扩散片。
地址 215026 江苏省苏州市苏州工业园区钟南街478号