发明名称 Organisches Substrat mit durch Magnetronzerstäubung abgeschiedenen optischen Lagen und Verfahren zur Herstellung desselben, sowie Verwendung eines solchen Verfahrens
摘要 <p>Verfahren zur Herstellung eines organischen Substrats mit einem optisch aktiven Schichtstapel an zumindest einer Seite davon, wobei der optisch aktive Schichtstapel zumindest eine optische Lage mit einem hohen Brechungsindex und zumindest eine optische Lage mit einem niederen Brechungsindex umfasst, wobei das Verfahren den Schritt umfasst des Abscheidens von zumindest einer der optischen Lagen durch Magnetronsputtern bei einem Druck zwischen 0,8 Pa bis 5,0 Pa und einem Abstand zwischen Magnetron und Substrat von zumindest 90 mm.</p>
申请公布号 DE19983075(B3) 申请公布日期 2011.12.29
申请号 DE1999183075 申请日期 1999.03.18
申请人 ESSILOR INTERNATIONAL COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE;FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. 发明人 LIEBIG, JOEM-STEFFEN;GOEDICKE, KLAUS;KIRCHHOFF, VOLKER;KELLER, GERHARD;BOSMANS, RICHARD;COMBLE, PASCAL
分类号 C23C14/35;C23C14/00;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/34;G02B1/11 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人
主权项
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