一种自洁太阳能高反射率纳米薄膜及制造方法

摘要

一种自洁太阳能高反射率纳米薄膜及制造方法，包括一基层，为不锈钢或有机玻璃，厚度0.3mm～1.2mm，其上为一过渡层,材料为铜或铬，厚度为20nm～50nm，其上为一反射层，反射层为银，其厚度为80nm～150nm，其上为一保护层，保护层为二氧化硅，其厚度为200nm～800nm，其上为一自洁层，自洁层为二氧化钛，其厚度为50nm～250nm。本发明的反射膜为银膜时，对太阳光的反射率为94%～97%，当反射膜为铝膜时，反射率为90%～92%，本发明不仅反射率高，而且具有的自清洁功能仅仅用水一冲就光亮如新，户外使用寿命长。

主权项

一种自洁太阳能高反射率纳米薄膜的制造方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：A、首先制备一层基层，为不锈钢或有机玻璃PMMA或有机玻璃PET，厚度0.3mm～1.2mm,将其表面用去污剂清洗，用蒸馏水水清洗，烘干1分钟，用细磨机磨2分钟，光洁度达到13级以上；B、接下来，在基层上用铜或铬制备过渡层，方法是用磁控溅射沉积方式，铜或铬的靶尺寸为都为Ф60×5 mm，纯度为99.99%，溅射气体为99.999%高纯氩，本底真空度为6.1×10 4 Pa，工作压力设为0.7 Pa，靶基距固定在75 mm，氩的流量为22 sccm；铜或铬的溅射功率都是40 W，溅射速率分别48.2 nm/min和43.6 nm/min,其厚度为20 nm～50 nm；C、接下来，在过渡层之上制备反射层，方法是用磁控溅射沉积方式，反射层为银，银的靶尺寸为Ф60×5 mm，纯度为99.99%，溅射气体为99.999%高纯氩，本底真空度为6.1×10 4 Pa，工作压力设为0.7 Pa，靶基距固定在75 mm，氩的流量为22 sccm；银的溅射功率是40 W，溅射速率为64.4 nm/min，其厚度为80～150 nm；D、然后在反射层之上制备保护层，方法是用磁控溅射沉积方式，保护层为二氧化硅，二氧化硅的靶尺寸为Ф60×5 mm，纯度为99.99%，溅射气体为99.999%高纯氩，本底真空度为6.1×10 4 Pa，工作压力设为0.7 Pa，靶基距固定在75 mm，氩的流量为22 sccm，其溅射功率是280 W，溅射速率分别为9.1 nm/min，其厚度为200～800 nm；E、然后在保护层之上制备自洁层，自洁层为二氧化钛，二氧化钛的靶尺寸为Ф60×3 mm，纯度为99.99%，溅射气体为99.999%高纯氩，本底真空度为6.1×10 4 Pa，工作压力设为0.7 Pa，靶基距固定在75 mm，氩的流量为22 sccm；采用射频磁控溅射法，其溅射功率是180 W，溅射速率5.3 nm/min，其厚度为50 nm～250 nm。