| 发明名称 | 羟基羧酸环状二聚体制造装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种羟基羧酸环状二聚体制造装置，其特征在于具有水平设置的反应液流路、与反应液流路接触的热介质流路和将反应液流路减压的减压装置。根据所述羟基羧酸环状二聚体制造装置，通过有效地生成羟基羧酸环状二聚体而以高收率获得高品质的聚羟基羧酸。 | ||
| 申请公布号 | CN202022870U | 申请公布日期 | 2011.11.02 |
| 申请号 | CN201120079230.3 | 申请日期 | 2011.03.17 |
| 申请人 | 株式会社日立工业设备技术 | 发明人 | 上川将行;松尾俊明;冈本成恭;冈宪一郎;近藤健之;户村晃;铃木一隆 |
| 分类号 | C07D319/12(2006.01)I | 主分类号 | C07D319/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 羟基羧酸环状二聚体制造装置，其特征在于具有水平设置的反应液流路、与反应液流路接触的热介质流路和将反应液流路减压的减压装置。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||