| 发明名称 | 牙科根管锉表面污染物的去除方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种牙科根管锉表面污染物的去除方法，包括以下步骤：(1)将牙科根管锉放入低温等离子体表面处理装置的上下电极之间的平台上；(2)将体系抽真空至次大气压条件；(3)以氩气为处理气体，调节气体流量为1.2～1.5m3/h，充气时间10～15s；(4)启动辉光放电低温等离子体表面处理装置开关，系统自动放电，对牙科根管锉表面进行处理；(5)放电结束后，系统自动破真空，处理过程结束。本发明方法利用非反应性氩等离子体所具有荷电集尘作用，使等离子体中的大量电子与污染物发生非弹性碰撞并粘附其表面从而使其荷电，在电场作用下，颗粒污染物被集尘极收集，从而实现有效去除牙科根管锉表面污染物的目标。 | ||
| 申请公布号 | CN101716583B | 申请公布日期 | 2011.10.19 |
| 申请号 | CN200910264853.5 | 申请日期 | 2009.12.24 |
| 申请人 | 南京医科大学 | 发明人 | 张怀勤;姚红;黄彦;杨建荣;陆金星;沈鸽兰;马俊驰;陈淑;吴红梅;王宇群;陆英群;袁苗;卞洁;金思远 |
| 分类号 | B08B7/00(2006.01)I;A61L2/14(2006.01)I | 主分类号 | B08B7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人 | 肖明芳;柏尚春 |
| 主权项 | 牙科根管锉表面污染物的去除方法，其特征在于该方法包括以下步骤：(1)将牙科根管锉放入低温等离子体表面处理装置的上下电极之间的平台上；(2)将体系抽真空至次大气压条件；(3)以氩气为处理气体，调节气体流量为1.2～1.5m3/h，充气时间为10～15s；(4)启动辉光放电低温等离子体表面处理装置开关，系统自动放电，放电功率为180～200W，放电时间为20～25min，对牙科根管锉表面进行处理；(5)放电结束后，系统自动破真空，处理过程结束；步骤(1)中，所述的牙科根管锉先经过常规清洗过程，即依次经过流动水手工刷洗、加酶洗液清洗和超声波清洗的步骤；步骤(2)中，所述的次大气压条件为1500～2500Pa。 | ||
| 地址 | 210029 江苏省南京市汉中路140号 | ||