发明名称 METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, METHOD FOR TRANSFERING PATTERN, PHOTOMASK, AND DATABASE
摘要 <p>노광 조건을 모방한 노광 조건을 재현하는 노광 수단을 이용하여 소정 패턴이 형성된 테스트 마스크에 테스트 노광을 행하여, 이 테스트 마스크의 투과광 패턴을 촬상 수단에 의해 취득하고 취득된 투과광 패턴에 기초하여 투과광 패턴 데이터를 얻는 공정과, 투과광 패턴 데이터에 기초하여 노광 조건 하에서의 실효 투과율을 얻는 공정을 갖고, 그 실효 투과율에 기초하여, 그 영역의 형상, 그 영역에 형성하는 막의 소재, 또는, 막 두께를 결정한다.</p>
申请公布号 KR101071454(B1) 申请公布日期 2011.10.10
申请号 KR20080071085 申请日期 2008.07.22
申请人 发明人
分类号 G01N21/59;G03F1/54;G03F1/68;G03F1/84;H01L21/027;H01L21/336;H01L29/786 主分类号 G01N21/59
代理机构 代理人
主权项
地址