| 主权项 |
一种液状硬化性树脂组成物，其特征为，含有下列成分：(A)含氟聚合物、(B)热硬化性化合物、(C)硬化触媒、(D)数平均粒径100nm以下之金属氧化物粒子(以下称为「(D)金属氧化物粒子」)、(E-1)对(A)含氟聚合物具有高溶解性之1种或2种以上的溶剂(以下称为「(E-1)速挥发溶剂」)、(E-2)对(D)金属氧化物粒子具有高分散安定性，且对(E-1)速挥发溶剂具有相溶性之1种或2种以上的溶剂(以下称为「(E-2)迟挥发溶剂」)、(F)活性能量线硬化性化合物，又，(E-1)速挥发溶剂之相对蒸发速度大于(E-2)迟挥发溶剂之相对蒸发速度。如申请专利范围第1项之液状硬化性树脂组成物，其中对液状硬化性树脂组成物之(E-1)速挥发溶剂及(E-2)迟挥发溶剂以外的成分总量100质量%，(C)成分含量为0.1至20质量%。如申请专利范围第1或2项之液状硬化性树脂组成物，其中对液状硬化性树脂组成物之(E-1)速挥发溶剂及(E-2)迟挥发溶剂以外的成分总量100质量%，(B)成分含量为5至80质量%。如申请专利范围第1项之液状硬化性树脂组成物，其中(D)金属氧化物粒子为，以氧化钛、氧化锆、含锑氧化锡、含磷氧化锡、含锡氧化铟、二氧化矽、氧化铝、氧化铈、氧化锌、含铝氧化锌、氧化锡、含锑氧化锌及含铟氧化锌中所选出1或2以上之金属氧化物为主成分之粒子。如申请专利范围第1项之液状硬化性树脂组成物，其中金属氧化物粒子为具有多层构造之金属氧化物粒子。如申请专利范围第1项之液状硬化性树脂组成物，其中(D)金属氧化物粒子键结具有聚合性不饱和基之有机化合物。一种硬化膜，其特征系由如申请专利范围第1项之液状硬化性树脂组成物硬化而得，且具有2层以上之多层构造。如申请专利范围第7项之硬化膜，其为，具有高密度存在(D)成分之一层以上，及实质不存在(D)成分之一层以下所构成的二层以上之层构造。一种硬化膜之制造方法，其特征为，具备将如申请专利范围第1项之液状硬化性树脂组成物加热及/或照射放射线而硬化之步骤。一种层合体的制造方法，其特征为，制造具有基材及上方之多层构造的层合体之方法中，将如申请专利范围第1项之液状硬化性树脂组成物涂布于基材上或形成于基材上之层上，以形成涂膜后，由此1个涂膜蒸发溶剂，而形成2以上之层。如申请专利范围第10项之层合体的制造方法，其中，2以上之各层为，高密度存在金属氧化物粒子之层或实质不存在金属氧化物粒子之层，且至少一层为高密度存在金属氧化物粒子之层。如申请专利范围第11项之层合体的制造方法，其中，2以上之层为2层。如申请专利范围第10项之层合体的制造方法，其中，将2以上之层加热及/或照射放射线而硬化。如申请专利范围第10项之层合体的制造方法，其中，层合体为光学用零件。如申请专利范围第10项之层合体的制造方法，其中，层合体为防反射膜。如申请专利范围第12项之层合体的制造方法，其中，层合体为基材上至少由近基材侧依序层合高折射率层及低折射率层而得之防反射膜，且如申请专利范围第12项之2层系由高折射率层及低折射率层所形成。如申请专利范围第16项之层合体的制造方法，其中，低折射率层之589nm的折射率为1.20至1.55，高折射率层之589nm的折射率为1.50至2.20，且高于低折射率层之折射率。如申请专利范围第12项之层合体的制造方法，其为，层合体为基材上至少由近基材侧依序层合中折射率层、高折射率层及低折射率层而得之防反射膜，且如申请专利范围第12项之2层系由高折射率层及低折射率层所形成。如申请专利范围第18项之层合体的制造方法，其为，低折射率层之589nm的折射率为1.20至1.55，中折射率层之589nm的折射率为1.50至1.90，且高于低折射率层之折射率，高折射率层之589nm的折射率为1.51至2.20，且高于中折射率层之折射率。如申请专利范围第10项之层合体的制造方法，其中，基材上另形成硬涂层及/或防静电层。一种层合体，其特征系以如申请专利范围第10项之层合体的制造方法制造。 |
