发明名称 |
非晶质硬质碳被膜 |
摘要 |
本发明提供一种几乎不含有氢、实际上只包含碳的、与基质材料密合性优良的,高硬度且耐磨损性也优良的非晶质硬质碳被膜。所述非晶质硬质碳被膜由以下构成,即,在基质材料表面上形成的实际上只包含碳的第1非晶质硬碳层,和在第1非晶质硬质碳层表面上形成的实际上只包含碳的第2非晶质硬质碳层;从断面观看时,第1非晶质硬质碳层的透射型电子显微镜像比第2非晶质硬质碳层的透射型电子显微镜像明亮。 |
申请公布号 |
CN101341274B |
申请公布日期 |
2011.08.31 |
申请号 |
CN200680048148.6 |
申请日期 |
2006.11.28 |
申请人 |
株式会社理研;日本I·T·F株式会社 |
发明人 |
诸贯正树;松井崇;内海庆春;大原久典 |
分类号 |
C23C14/06(2006.01)I;F16C33/10(2006.01)I;F16C33/12(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/06(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
陈建全 |
主权项 |
一种非晶质硬质碳被膜,其特征在于,由在基质材料表面上形成的实际上只包含碳的第1非晶质硬质碳层、和在该第1非晶质硬质碳层的表面上形成的实际上只包含碳的第2非晶质硬质碳层构成;从断面观看时,所述第1非晶质硬质碳层的透射型电子显微镜像比所述第2非晶质硬质碳层的透射型电子显微镜像明亮;所述第1非晶质硬质碳层的厚度为5nm以上70nm以下;所述第2非晶质硬质碳层的厚度为0.5μm以上5.0μm以下。 |
地址 |
日本东京都 |