| 主权项 |
一种用于一液晶显示器设备之装置，其包括：一用于处理一基板之处理腔室，其中该处理腔室为一经组态以处理该基板之一沈积步骤之沈积腔室或一经组态以处理该基板之一蚀刻步骤之蚀刻腔室；一具有至少一内部输送器之负荷锁定腔室，该内部输送器包含复数个该基板直接装载于其上之滚轮；邻近于该负荷锁定腔室之至少一外部输送器，该基板能在一第一方向中自该外部输送器被转移至该内部输送器，及在一与该第一方向相反之第二方向中自该内部输送器被转移至该外部输送器；及一连接至该处理腔室及该负荷锁定腔室之转移腔室，该转移腔室具有一基板转移构件。如请求项1之装置，其中藉由个别之驱动单元以驱动该至少一外部输送器及该至少一内部输送器。如请求项1之装置，其中该负荷锁定腔室具有一邻近于该外部输送器之第一门及一邻近于该转移腔室之第二门。如请求项1之装置，其中该内部输送器具有第一及第二内部输送器。如请求项4之装置，其中该第一内部输送器堆栈在该第二输送器上，其中该第一及第二内部输送器皆包含若干滚轮支撑杆及一支撑体，且其中该第一内部输送器在一垂直方向中与该第二内部输送器完全隔开。如请求项4之装置，其中该基板系藉由该第一内部输送器而自该外部输送器被转移至该转移腔室，且该基板系藉由该第二内部输送器而自该转移腔室被转移至该外部输送器。如请求项1之装置，其中该外部输送器具有第一及第二外部输送器，且该负荷锁定腔室具有一邻近于该第一外部输送器之第一负荷锁定腔室及一邻近于该第二外部输送器之第二负荷锁定腔室。如请求项7之装置，其中该第一负荷锁定腔室具有一邻近于该第一外部输送器之第一门及一邻近于该转移腔室之第二门，且该第二负荷锁定腔室具有一邻近于该第二外部输送器之第三门及一邻近于该转移腔室之第四门。如请求项8之装置，其中该内部输送器为一在该第一负荷锁定腔室中之第一内部输送器及一在该第二负荷锁定腔室中之第二内部输送器。如请求项8之装置，其中该基板系藉由该第一门而自该第一外部输送器被转移至该第一内部输送器，并藉由该第四门而自该转移腔室被转移至该第二内部输送器。如请求项1之装置，其进一步包括一上下移动该至少一内部输送器之上下驱动单元。如请求项1之装置，其中该基板转移构件系一作旋转及线性运动之机械臂。如请求项1之装置，其中该至少一内部输送器系藉由一滚轮而被驱动。如请求项1之装置，其中该外部输送器包括复数个第二滚轮及穿过每一第二滚轮中心部分之复数个滚轮支撑杆。如请求项12之装置，其中该内部输送器包括穿过每一滚轮中心部分之复数个滚轮支撑杆，且其中每一滚轮之末端部分与每个滚轮支撑杆的中心分隔开一用于该机械臂的间隔。如请求项15之装置，其中该机械臂无需与每个滚轮接触即可移动。如请求项1之装置，其中当该基板自该外部输送器被转移至该负荷锁定腔室时，该负荷锁定腔室被排空，及其中当该基板经由该转移腔室自该处理腔室被转移至该负荷锁定腔室时，该负荷锁定腔室被加压。一种用于液晶显示器设备之装置，其包含：用于处理一基板之复数个处理腔室，其中该处理腔室为一经组态以处理该基板于一沈积步骤之沈积腔室或一经组态以处理该基板于一蚀刻步骤之蚀刻腔室；具有至少一个内部输送器之至少一个负荷锁定腔室，该至少一个内部输送器包含复数个该基板直接装载于其上之滚轮；一邻近于该负荷锁定腔室之外部输送器，该基板能在一第一方向中自该外部输送器被转移至该内部输送器，及在一与该第一方向相反之第二方向中自该内部输送器被转移至该外部输送器；及一连接至该等复数个处理腔室及该至少一个负荷锁定腔室之转移腔室，该转移腔室具有一基板转移构件。一种转移基板之方法，该转移系利用一包含一处理腔室、一具有一内部输送器之负荷锁定腔室、一转移腔室及一邻近于该负荷锁定腔室之外部输送器之装置予以进行，其中该基板在一第一方向中自该外部输送器被转移至该内部输送器，及在一与该第一方向相反之第二方向中自该内部输送器被转移至该外部输送器，该方法包括：利用该外部输送器而使该基板邻近于该负荷锁定腔室；藉由驱动该内部输送器而将该基板自该外部输送器转移至该负荷锁定腔室，该内部输送器包含复数个该基板直接装载于其上之滚轮；将该基板自该负荷锁定腔室转移至该处理腔室以处理该基板之一沈积步骤或一蚀刻步骤；藉由提交该基板至一沈积步骤或一蚀刻步骤以在该处理腔室内处理该基板；将该基板自该处理腔室转移至该负荷锁定腔室；及藉由驱动该内部输送器而将该基板自该负荷锁定腔室转移至该外部输送器。如请求项19之方法，其进一步包括：在将该基板自该外部输送器转移至该负荷锁定腔室之后，排空该负荷锁定腔室；及在将该基板自该处理腔室转移至该负荷锁定腔室之后，加压该负荷锁定腔室。如请求项19之方法，其中该内部输送器具有第一及第二输送器，其中将自该外部输送器转移出之该基板装载在该第一内部输送器上，并将自该处理腔室转移出之该基板装载在该第二内部输送器上。一种装置，其包括：一用于处理一基板之处理腔室，其中该处理腔室为一经组态以处理该基板之一沈积步骤之沈积腔室或一经组态以处理该基板之一蚀刻步骤之蚀刻腔室；一具有一内部输送器之单一负荷锁定腔室，该内部输送器包含复数个该基板直接装载于其上之滚轮；一邻近于该单一负荷锁定腔室之单一外部输送器，其中该基板能在一第一方向中自该单一外部输送器被转移至该单一负荷锁定腔室，及在一与该第一方向相反之第二方向中自该单一负荷锁定腔室被转移至该单一外部输送器；及一连接至该处理腔室及该单一负荷锁定腔室之转移腔室，及其中该内部输送器包括穿过每一滚轮中心部分之复数个滚轮支撑杆。如请求项22之装置，其中该等复数个滚轮之至少一者在平面上具有一第一长轴及一第一短轴，及该等复数个滚轮支撑杆之至少一者在平面上具有一第二长轴及一第二短轴，及其中该第一长轴垂直于该第二长轴。 |
