发明名称 |
P型超结横向双扩散半导体金属氧化物晶体管 |
摘要 |
一种P型超结横向双扩散半导体金属氧化物晶体管,包括:N型衬底,在N型衬底上设有超结结构及N型体区,超结结构由连接源漏区方向相间分布的P型区和N型区构成,在N型体区上方设有P型源区、N型体接触区及栅氧化层,在超结结构的上方设有P型漏区,在超结结构上方,且位于P型漏区以外的区域设有第一型场氧化层,在栅氧化层上方设有多晶硅栅,在P型源区、N型体接触区、P型漏区、多晶硅栅和第一型场氧化层上方设有第二型场氧化层,P型源区、P型漏区、N型体接触区及多晶硅栅均接有穿通第二型场氧化层的金属引线,其特征在于在N型衬底内设有P型缓冲区,P型缓冲区位于超结结构中N型区的下方,且与超结结构中N型区底部相接。 |
申请公布号 |
CN101777581B |
申请公布日期 |
2011.06.15 |
申请号 |
CN200910263299.9 |
申请日期 |
2009.12.18 |
申请人 |
东南大学 |
发明人 |
孙伟锋;孙大鹰;徐申;钱钦松;陈越政;陆生礼;时龙兴 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
南京经纬专利商标代理有限公司 32200 |
代理人 |
黄雪兰 |
主权项 |
一种P型超结横向双扩散半导体金属氧化物晶体管,包括:N型衬底(1),在N型衬底(1)上设有超结结构及N型体区(2),超结结构由连接源漏区方向相间分布的P型区(11)和N型区(12)构成,在N型体区(2)上方设有P型源区(4)、N型体接触区(5)及栅氧化层(3),在超结结构的上方设有P型漏区(14),在超结结构上方,且位于P型漏区(14)以外的区域设有第一型场氧化层(10),在栅氧化层(3)上方设有多晶硅栅(6),在P型源区(4)、N型体接触区(5)、P型漏区(14)、多晶硅栅(6)和第一型场氧化层(10)上方设有第二型场氧化层(8),P型源区(4)、P型漏区(14)、N型体接触区(5)及多晶硅栅(6)均接有穿通第二型场氧化层(8)的金属引线,其特征在于在N型衬底(1)内设有P型缓冲区(15),P型缓冲区(15)位于超结结构中N型区(12)的下方,且与超结结构中N型区(12)底部相接。 |
地址 |
214135 江苏省无锡市新区菱湖大道99号 |