发明名称 一种宽带减反增透纳米结构及其制备方法
摘要 本发明涉及为一种宽带减反增透纳米结构及其制备方法。属光学薄膜材料领域。本发明采用溶胶-凝胶技术,形成纳米薄膜-纳米球复合折射率梯度结构。此结构是在纳米薄膜上面制备一层纳米球阵列结构,或是将纳米球分散在前驱溶胶中,最终制备复合薄膜。所述的SiO2纳米薄膜的厚度控制在20-2500nm范围,SiO2纳米球的直径控制在15-500nm范围。所述的SiO2纳米薄膜折射率介于1.15-1.50之间。在本发明获得的宽带减反增透结构,在透明光电、热电转换和光学仪器等领域具有广泛的应用前景。
申请公布号 CN102064204A 申请公布日期 2011.05.18
申请号 CN201010571961.X 申请日期 2010.12.03
申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明人 黄富强;李德增
分类号 H01L31/0216(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I 主分类号 H01L31/0216(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种宽带减反增透纳米结构,其特征在于由SiO2纳米薄膜‑SiO2纳米球阵列组成的复合折射率梯度结构。
地址 200050 上海市长宁区定西路1295号