发明名称 |
一种宽带减反增透纳米结构及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及为一种宽带减反增透纳米结构及其制备方法。属光学薄膜材料领域。本发明采用溶胶-凝胶技术,形成纳米薄膜-纳米球复合折射率梯度结构。此结构是在纳米薄膜上面制备一层纳米球阵列结构,或是将纳米球分散在前驱溶胶中,最终制备复合薄膜。所述的SiO2纳米薄膜的厚度控制在20-2500nm范围,SiO2纳米球的直径控制在15-500nm范围。所述的SiO2纳米薄膜折射率介于1.15-1.50之间。在本发明获得的宽带减反增透结构,在透明光电、热电转换和光学仪器等领域具有广泛的应用前景。 |
申请公布号 |
CN102064204A |
申请公布日期 |
2011.05.18 |
申请号 |
CN201010571961.X |
申请日期 |
2010.12.03 |
申请人 |
中国科学院上海硅酸盐研究所 |
发明人 |
黄富强;李德增 |
分类号 |
H01L31/0216(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I |
主分类号 |
H01L31/0216(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种宽带减反增透纳米结构,其特征在于由SiO2纳米薄膜‑SiO2纳米球阵列组成的复合折射率梯度结构。 |
地址 |
200050 上海市长宁区定西路1295号 |