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一种骨灰坛结构改良，包括：一坛身，系为一石材，其具有朝上呈开口状之一容槽，且该坛身的底面具有至少一个阴刻图案；以及一坛盖，系为一石材，其盖设在该坛身的顶部以封住该容槽的开口。如申请专利范围第1项所述之骨灰坛结构改良，其中该坛身之底面的阴刻图案系以喷砂加工形成。如申请专利范围第2项所述之骨灰坛结构改良，其中该阴刻图案的凹痕中系涂设有金漆。如申请专利范围第3项所述之骨灰坛结构改良，其中该阴刻图案的凹痕中系先喷涂有一层底漆，待该底漆烘乾后再于其上涂布低熔点金属液，使该低熔点金属液冷却后于该底漆表面形成一层低熔点金属薄膜，然后再于该低熔点金属薄膜上涂布该金漆。如申请专利范围第2或3或4项所述之骨灰坛结构改良，其中该喷砂加工系为先在该坛身的底面以白胶贴黏具有镂空图案之一隔离片，然后再以喷砂的方式朝向该隔离片喷射，藉由该隔离片之镂空图案以外的区域阻隔喷砂，使喷砂仅能透过该镂空图案对该坛身的底面蚀刻出相对应的凹痕以形成该阴刻图案。如申请专利范围第5项所述之骨灰坛结构改良，其中该隔离片系为一感光片，其系利用一绘图程式将一图片转成黑白高反差的影像然后印制于一透明胶片上，再将该隔离片贴附于该透明胶片的底面，利用紫外线照射该透明胶片顶面，使该隔离片未被该透明胶片上之图案遮住的部份受紫外线照射而产生化学变化，然后再将该隔离片浸泡于水中冲洗使未受紫外线照射的部份溶于水中而形成该镂空图案。如申请专利范围第1项所述之骨灰坛结构改良，其中该阴刻图案系以蚀刻的方式形成于该坛身的底面。如申请专利范围第1项所述之骨灰坛结构改良，其中该阴刻图案系以雷射雕刻的方式形成于该坛身的底面。如申请专利范围第1或4项所述之骨灰坛结构改良，其中该阴刻图案包括文字。如申请专利范围第1或4项所述之骨灰坛结构改良，其中该阴刻图案包括花纹。 |
