| 主权项 |
一种彩色滤光片的制造方法，包括：在一第一温度下在一基底上形成一复合层，该复合层包括由下而上堆叠之至少两层膜；以及在一第二温度下进行一回火制程，其中该第一温度低于该第二温度。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该第一温度高于摄氏0度且低于摄氏150度。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该第二的温度为摄氏300度至900度。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该第二的温度为摄氏300度至400度。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该回火制程所使用的气体选自于氮气、氮气及氢气、氨气、氨气及氢气所组成之族群其中之一。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该回火制程的时间为10分钟至4小时。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该复合层包括由氧化钛层与氧化矽层交错堆叠而成之堆叠层、五氧化二钽层与氧化矽层交错堆叠而成之堆叠层或是硫化锌层与氟化镁层交错堆叠而成之堆叠层。一种彩色滤光片的制造方法，包括：在一基板上形成一结构松散的复合层；图案化该结构松散的该复合层，以形成一图案化复合层；以及进行一处理步骤，以使该图案化第一复合层的结构致密化，形成一滤光片。如申请专利范围第8项所述之彩色滤光片的制造方法，其中：该结构松散的该复合层是在一第一的温度下形成；以及该处理步骤是在一第二的温度下进行，其中该第一温度低于该第二温度。如申请专利范围第9项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该第一温度高于摄氏0度且低于摄氏150度。如申请专利范围第9项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该第二温度为摄氏300度至900度。如申请专利范围第9项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该第二温度为摄氏300度至400度。如申请专利范围第9项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该处理步骤包括一回火制程。如申请专利范围第13项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该回火制程所使用的气体选自于氮气、氮气及氢气、氨气、氨气及氢气所组成之族群其中之一。如申请专利范围第13项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该回火制程的时间为10分钟至4小时。如申请专利范围第9项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该结构松散的该复合层包括氧化钛层与氧化矽层交错堆叠而成之堆叠层、五氧化二钽层与氧化矽层交错堆叠而成之堆叠层或是硫化锌层与氟化镁层交错堆叠而成之堆叠层。一种彩色滤光片的制造方法，包括：在一基板上形成一结构松散的第一复合层；图案化该结构松散的该第一复合层，以形成一图案化第一复合层；在该基板上形成一结构松散的第二复合层；图案化该结构松散的该第二复合层，以形成一图案化第二复合层；在该基板上形成一结构松散的第三复合层；图案化该结构松散的该第三复合层，以形成一图案化第三复合层；以及进行一处理步骤，以使该图案化第一复合层、该图案化第二复合层以及该图案化第三复合层的结构致密化，以分别形成一第一滤光片、一第二滤光片与一第三滤光片。如申请专利范围第17项所述之彩色滤光片的制造方法，其中：该结构松散的该第一复合层、该第二复合层与该第三复合层是在一第一温度下形成；以及该处理步骤是在一第二温度下进行。如申请专利范围第18项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该第一温度高于摄氏0度且低于摄氏150度。如申请专利范围第18项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该第二温度为摄氏300度至900度。如申请专利范围第18项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该第二温度为摄氏300度至400度。如申请专利范围第17项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该处理步骤包括一回火制程。如申请专利范围第22项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该回火制程所使用的气体选自于氮气、氮气及氢气、氨气、氨气及氢气所组成之族群其中之一。如申请专利范围第22项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该回火制程的时间为10分钟至4小时。如申请专利范围第17项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该结构松散的第一复合层、该结构松散的第二复合层与该结构松散的第三复合层分别为红色膜层、绿色膜层或蓝色膜层其中之一。如申请专利范围第17项所述之彩色滤光片的制造方法，其中该结构松散的第一复合层、该结构松散的第二复合层以及该结构松散的第三复合层分别包括氧化钛层与氧化矽层交错堆叠而成之堆叠层、五氧化二钽层与氧化矽层交错堆叠而成之堆叠层或是硫化锌层与氟化镁层交错堆叠而成之堆叠层。 |
