| 发明名称 | 光刻设备和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种光刻设备，它设置成将图案从图案形成装置转移到衬底上，该设备包括：衬底台，它构建成固定衬底；第一夹紧系统，配置成将衬底台夹到衬底台支撑结构上；以及第二夹紧系统，配置成在衬底台已被夹到衬底台支撑结构上之后将衬底夹到衬底台上。 | ||
| 申请公布号 | CN101082779B | 申请公布日期 | 2010.12.22 |
| 申请号 | CN200710104018.6 | 申请日期 | 2007.05.14 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | R·T·P·康彭;O·沃兹尼;M·侯本;M·埃尔鲍柴比;F·J·M·博克霍尔特;R·瓦克 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种光刻设备，设置成将图案从图案形成装置转移到衬底上，其中所述设备包括：支座，它配置成固定图案形成装置，所述图案形成装置配置成提供要转移到衬底上的图案；衬底台，它构建成固定衬底；第一夹紧系统，它配置成将所述衬底台夹到衬底台支撑结构上；以及第二夹紧系统，它配置成在所述衬底台已被夹到所述衬底台支撑结构上之后将衬底夹到所述衬底台上，其中，衬底台被半连续地夹到所述衬底台支撑结构上。 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||