| 主权项 |
一种研磨抛光用容器，系包括：一内筒，该内筒系从筒内壁面至筒口周缘布设一加工覆层，该内筒系盖设一封盖，该封盖对应内筒的一侧亦布设一加工覆层，该内筒可容置欲研磨抛光的物件；一套筒，该套筒系具有一开口并在筒内形成一容置空间，以供该内筒从开口置入套筒内，该套筒于开口周边系设有一定位组，以该定位组将内筒固定于套筒内；该套筒底部设有一枢轴，以该枢轴与机具组装并受其驱动而枢转，枢转过程中以内筒及封盖所布设的加工覆层接触物件及研磨抛光材料，以达到研磨抛光的效果。根据申请专利范围第1项所述之研磨抛光用容器，其中该定位组系包括从该开口相对的两侧向上延伸出二耳夹，各该耳夹系剖有一嵌沟，一栓条两端分别嵌入嵌沟内，以跨于开口上方的栓条挡止内筒，防止内筒从套筒内脱出。根据申请专利范围第2项所述之研磨抛光用容器，其中该栓条系开有一螺孔，一调整栓沿螺孔贯穿栓条并抵住封盖形成定位作用。根据申请专利范围第1项至第3项中任一项所述之研磨抛光用容器，其中该内筒于筒口周缘相对的两侧系水平延伸出二耳扣，该封盖则对应各该耳扣延伸出一耳盖，该内筒与封盖盖合则各该耳扣与耳盖对合，并各以一螺丝螺入对合的耳扣与耳盖将内筒与封盖锁合。根据申请专利范围第4项所述之研磨抛光用容器，其中该套筒于开口周缘相对的两侧各剖出一穴槽，以各该穴槽供对应的耳扣及耳盖嵌入，并藉此防止内筒于套筒内不当偏转。根据申请专利范围第1项至第3项中任一项所述之研磨抛光用容器，其中该加工覆层系为氨基甲酸乙酯所构成。根据申请专利范围第4项所述之研磨抛光用容器，其中该加工覆层系为氨基甲酸乙酯所构成。根据申请专利范围第5项所述之研磨抛光用容器，其中该加工覆层系为氨基甲酸乙酯所构成。 |
