发明名称 影像显示系统及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI332276 申请公布日期 2010.10.21
申请号 TW095129765 申请日期 2006.08.14
申请人 奇美电子股份有限公司 发明人 彭杜仁;张世昌;曾章和
分类号 H01L51/50 主分类号 H01L51/50
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路4段279号3楼;颜锦顺 台北市大安区信义路4段279号3楼
主权项 一种影像显示系统,包含一电激发光元件,该电激发光元件包含:一基底;复数个发光单元,形成于该基底上,各发光单元系沿其发光路径发射不同发光强度之光线;及一补偿层,系沿着该些发光路径设置,其中该补偿层在不同区域具有不同之光穿透率,且对应具有不同发光强度之光线,且其中该补偿层在不同区域的光穿透率并不会再随发光强度而改变,以使该些发光单元经由该补偿层输出一实质均匀之光线。如申请专利范围第1项所述之影像显示系统,其中该些发光单元系作为画素或次画素。如申请专利范围第1项所述之影像显示系统,其中该补偿层包含一具有低光穿透率之第一光透射区及一具有高光穿透率之第二光透射区,而通过该第一光透射区之光线具有较高之发光强度,且通过该第二光透射区之光线具有较低之发光强度,藉此输出一实质均匀之光线。如申请专利范围第1项所述之影像显示系统,其中该补偿层为一照光后之感光层。如申请专利范围第4项所述之影像显示系统,其中,该照光后之感光层材料包含负片、共轭高分子材料或含银化合物。如申请专利范围第1项所述之影像显示系统,其中该补偿层系设置于该些发光单元上方或该基底下方。如申请专利范围第6项所述之影像显示系统,其更包含一盖层,用以覆盖在该些发光单元上之补偿层,或形成于该些发光单元和补偿层之间。如申请专利范围第4项所述之影像显示系统,其中该照光后之感光层在不同区域中具有不同光穿透率之固定特性。如申请专利范围第1项所述之影像显示系统,其中该些发光单元包含一发光层,其并夹于一上电极层和下电极层之间。如申请专利范围第9项所述之影像显示系统,其更包含一绝缘层,形成于该上电极层上。如申请专利范围第9项所述之影像显示系统,其中该电激发光元件为一上部发光型有机电激发光显示元件,且该上电极层为一透明层。如申请专利范围第9项所述之影像显示系统,其中该电激发光元件为一底部发光型有机电激发光显示元件,且该下电极层和基底为一透明层。如申请专利范围第1项所述之影像显示系统,其更包含一显示面板,其中该电激发光元件为该显示面板之一部分。如申请专利范围第13项所述之影像显示系统,其更包含一电子元件,该电子元件包含:该显示面板;及一输入单元,耦接于该显示面板,用以提供输入至该显示面板,以使该显示面板显示影像。如申请专利范围第14项所述之影像显示系统,其中该电子元件为一行动电话、数位相机、个人资料助理(PDA)、笔记型电脑、桌上型电脑、电视、车用显示器、或可携式DVD播放机。如申请专利范围第1项所述之影像显示系统,其中该电激发光元件为一有机电激发光元件。一种影像显示系统之制造方法,该影像显示系统包含一电激发光元件,该方法包含:提供一基底;形成复数个发光单元于该基底上,其中各发光单元系沿其发光路径发射不同发光强度之光线;及沿该些发光路径设置一感光层;以该些发光单元发射之光线照射该感光层,使该照光后之感光层在不同区域具有不同之光穿透率,且对应具有不同发光强度之光线,且其中该照光后之感光层在不同区域之光穿透率并不会再随发光强度而改变,以使该些发光单元经由该照光后之感光层输出实质均匀之光线。如申请专利范围第17项所述之影像显示系统之制造方法,其中该照光后之感光层包含一第一区域及一第二区域,且该方法更包含:以一较高发光强度之光线照射该第一区域,形成一低光穿透率区;及以一较低发光强度之光线照射该第二区域,使该第二区域之光穿透率高于该第一区域。如申请专利范围第17项所述之影像显示系统之制造方法,更包含使该照光后之感光层在不同区域中具有不同光穿透率之特性加以固定。如申请专利范围第19项所述之影像显示系统之制造方法,其中固定该特性之方法包含显影及/或定影步骤。如申请专利范围第17项所述之影像显示系统之制造方法,更包含:取下该照光后之感光层;使该照光后之感光层在不同区域中具有不同光穿透率之特性加以固定;及重新贴回该照光后之感光层。如申请专利范围第20项所述之影像显示系统之制造方法,更包含:移除该照光后之感光层;转换上述输出之实质均匀的光线和各发光单元所发出光线之差异为对应之数位补偿值;储存该些数位补偿值;及依据该些对应之数位补偿值,提供复数个信号予各发光单元调整发光强度,以显示影像。如申请专利范围第22项所述之影像显示系统之制造方法,该转换步骤更包含:计算上述输出之实质均匀的光线和各发光单元所发出光线之发光强度差异;及转换该些发光强度差异为对应之数位补偿值。
地址 苗栗县竹南镇新竹科学工业园区科学路160号
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