| 发明名称 | 摄像装置和光学调整方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供摄像装置和光学调整方法，该摄像装置包括：在可沿光轴方向移动的构成变焦透镜的至少三个以上透镜组中的至少一个以上的可垂直移动透镜组，所述可垂直移动透镜组可沿基本上垂直于光轴的方向移动；在所述三个以上透镜组中的变焦透镜组，所述变焦透镜组可沿光轴方向移动；以及校正机构，通过将在广角端状态下的所述可垂直移动透镜组在所述基本上垂直的方向上移动至预定位置来校正基于所述三个以上的透镜组的光轴位置。当所述可垂直移动透镜组为了防振在各个变焦位置处在所述基本上垂直的方向上移动时，所述装置被构造成满足下面的条件式(1)，(1)0.7＜(Lw+Bw)/Bt＜1.3。 | ||
| 申请公布号 | CN101852907A | 申请公布日期 | 2010.10.06 |
| 申请号 | CN201010140255.X | 申请日期 | 2010.03.24 |
| 申请人 | 索尼公司 | 发明人 | 大畑笃;黑田大介;村田将之 |
| 分类号 | G02B7/00(2006.01)I;G02B7/04(2006.01)I;G02B7/10(2006.01)I;G03B19/00(2006.01)I | 主分类号 | G02B7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 余刚;吴孟秋 |
| 主权项 | 一种摄像装置，包括：在可沿光轴方向移动的构成变焦透镜的至少三个以上透镜组中的至少一个以上的可垂直移动透镜组，所述可垂直移动透镜组可沿基本上垂直于光轴的方向移动；在所述三个以上透镜组中的变焦透镜组，所述变焦透镜组可沿光轴方向移动；以及校正机构，通过将在广角端状态下的所述可垂直移动透镜组沿所述基本上垂直的方向移动至预定位置来校正基于所述三个以上透镜组的光轴位置，其中当所述可垂直移动透镜组为了防振而在各个变焦位置处在所述基本上垂直的方向上移动时，满足下面的条件式(1)，(1)0.7＜(Lw+Bw)/Bt＜1.3，其中，Lw是用于校正所述光轴位置的移动量，Bw是在广角端状态下用于防振的移动量，并且Bt是在望远端状态下用于防振的移动量。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||