| 发明名称 | 具有阻绝层的抛光垫和其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种具有阻绝层的抛光垫和其制造方法，所述抛光垫包括底材、阻绝层和研磨层。所述底材是以高分子体包覆纤维层而成。所述阻绝层位于所述底材上。所述研磨层位于所述阻绝层上，所述研磨层为高分子弹性体且具有多个长柱状孔隙。因而，所述阻绝层可防止研磨液在抛光过程中渗透到底材，以提高抛光研磨效果和质量。 | ||
| 申请公布号 | CN101850541A | 申请公布日期 | 2010.10.06 |
| 申请号 | CN200910130360.2 | 申请日期 | 2009.04.02 |
| 申请人 | 贝达先进材料股份有限公司 | 发明人 | 冯崇智;姚伊蓬;洪永璋;王俊达;刘玮得 |
| 分类号 | B24D11/00(2006.01)I;B24D11/02(2006.01)I | 主分类号 | B24D11/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 孟锐 |
| 主权项 | 一种抛光垫，其包括：底材，其以高分子体包覆纤维层而成；阻绝层，其位于所述底材上；和研磨层，其位于所述阻绝层上，所述研磨层为高分子弹性体且具有多个长柱状孔隙。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县 | ||