| 发明名称 | 一种具有强发光性能的纳米硅的蒸汽腐蚀制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明属于半导体技术领域。一种具有强发光性能的纳米硅的蒸汽腐蚀制备方法，其特征是将硅片置于蒸汽体积填充度为30％-85％，压强0.1MPa-2.5MPa，温度70℃-250℃高压釜内形成的蒸汽环境中蒸汽反应5分钟-190分钟；所述蒸汽由浓度介于8.00-22.00mol/l的氢氟酸和0.01-0.50mol/l的硝酸铁溶液按照氢氟酸∶硝酸铁＝25∶15摩尔比例混合组成的腐蚀液在高压釜内形成的蒸汽。本发明提高了反应效率，制备得到发光强度强、表面结构阵列化规则分布、大面积的纳米硅体系。本发明工艺简单，操作简便易行，制备条件温和，重复率达到100％；由本发明制备得到的纳米硅体系是未来制造全硅基光电子集成器件、新一代固体照明光源等光电子器件的重要材料。 | ||
| 申请公布号 | CN101838852A | 申请公布日期 | 2010.09.22 |
| 申请号 | CN201010185163.3 | 申请日期 | 2010.05.28 |
| 申请人 | 北京化工大学 | 发明人 | 许海军;陈家华;陆宏波;李德尧;苏雷;廛宇飞 |
| 分类号 | C30B33/12(2006.01)I;C23F1/12(2006.01)I | 主分类号 | C30B33/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人 | 刘萍 |
| 主权项 | 一种具有强发光性能的纳米硅的蒸汽腐蚀制备方法，其特征是将硅片置于蒸汽体积填充度为30％-85％，压强0.1MPa-2.5MPa，温度70℃-250℃高压釜内形成的蒸汽环境中蒸汽反应5分钟-190分钟；所述蒸汽由浓度介于8.00-22.00mol/l的氢氟酸和0.01-0.50mol/l的硝酸铁溶液按照氢氟酸∶硝酸铁摩尔比＝25∶15比例混合组成的腐蚀液在高压釜内形成的蒸汽。 | ||
| 地址 | 100029 北京市朝阳区北三环东路15号 | ||