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发明名称 IMPROVED SUBSTRATE COMPOSITIONS AND METHODS FOR FORMING SEMICONDUCTOR ON INSULATOR DEVICES
摘要
申请公布号 KR20100090785(A) 申请公布日期 2010.08.17
申请号 KR20107012001 申请日期 2008.10.28
申请人 CORNING INCORPORATED 发明人 DEJNEKA MATTHEW JOHN;ELLISON ADAM J;GADKAREE KISHOR P
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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