| 发明名称 |
Process for the selective formation of salicide on active areas of MOS devices |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0878833(B1) |
申请公布日期 |
2010.06.23 |
| 申请号 |
EP19980830235 |
申请日期 |
1998.04.20 |
| 申请人 |
STMICROELECTRONICS SRL |
发明人 |
MORONI, MAURIZIO;CLEMENTI, CESARE |
| 分类号 |
H01L21/8238;H01L21/285;H01L21/336;H01L21/60 |
主分类号 |
H01L21/8238 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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