发明名称 | 含鎓盐引发剂体系的可在机显影的IR敏感的印版 | ||
摘要 | 本发明提供了一种适用于可在机显影的印版的辐射敏感组合物。所述辐射敏感组合物包括引发剂体系,所述引发剂体系包括鎓盐和辐射吸收剂。所述引发剂体系与可聚合材料和包含聚环氧乙烷链段的聚合物粘合剂结合。 | ||
申请公布号 | CN1784305B | 申请公布日期 | 2010.06.09 |
申请号 | CN200480012496.9 | 申请日期 | 2004.05.11 |
申请人 | 伊斯曼柯达公司 | 发明人 | H·M·蒙内利;G·霍尔恩;J·黄 |
分类号 | B41C1/10(2006.01)I | 主分类号 | B41C1/10(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 赵苏林 |
主权项 | 一种用于获得可在机显影性的辐射敏感组合物,所述组合物包含:引发剂体系,所述引发剂体系包含鎓盐和IR辐射吸收剂;可聚合材料;和聚合物粘合剂,所述聚合物粘合剂作为分散的颗粒存在,并包括包含疏水性聚合物主链和多个由下式表示的侧基的接枝共聚物:-Q-W-Y其中Q为双官能连接基;W为亲水性链段或疏水性链段;Y为亲水性链段或疏水性链段;条件是当W为亲水性链段时,Y为亲水性链段或疏水性链段;当W为疏水性链段时,Y为亲水性链段;所述侧基包括具有12-250个环氧烷单元的聚环氧烷链段,所述IR辐射吸收剂包含阴离子发色团。 | ||
地址 | 美国纽约州 |