| 发明名称 | 具有气体缓冲均匀功能的离子源 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种具有气体缓冲均匀功能的离子源，包括气源、电弧室、用于连接所述的气源及电弧室的导管，所述的电弧室包括设置有灯丝的电弧腔，所述的电弧室的气体入口处设置有气体容腔，所述的气体容腔的进气口与所述的导管连通、所述的气体容腔的出气口与所述的电弧室连通。采用上述结构的离子源，气体能够持续、均匀、稳定的流入电弧室的气体容腔，能够获得持续稳定的电离效果。 | ||
| 申请公布号 | CN101685753A | 申请公布日期 | 2010.03.31 |
| 申请号 | CN200810155402.3 | 申请日期 | 2008.09.28 |
| 申请人 | 和舰科技（苏州）有限公司 | 发明人 | 谢立 |
| 分类号 | H01J37/08(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 孙仿卫 |
| 主权项 | 1、一种具有气体缓冲均匀功能的离子源，包括气源、电弧室(1)、用于连接所述的气源及电弧室的导管(2)，所述的电弧室(1)包括设置有灯丝的电弧腔(12)，其特征在于：所述的电弧室的气体入口处设置有气体容腔(11)，所述的气体容腔(11)的进气口与所述的导管(2)连通、所述的气体容腔(11)的出气口与所述的电弧室(1)连通。 | ||
| 地址 | 215021江苏省苏州市苏州工业园区星华街333号 | ||