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Ausführungsbeispiele der Erfindung beschreiben ein Verfahren zum Belichten eines Bereichs auf einem Substrat mit einem Strahl. Das Verfahren umfasst das Einstellen eines Fokusversatzes des Strahls bezüglich des Bereichs auf dem Substrat, das Neigen des Strahls oder das Neigen des Substrats und das Belichten des Bereichs auf dem Substrat mit dem Strahl, wodurch Positionen innerhalb des Bereichs erzeugt werden, die mit unterschiedlichen Fokussen belichtet werden. Ferner beschreiben Ausführungsbeispiele Computerprogramme zum Steuern eines photolithographischen Systems um dasselbe auszuführen, und ein photolithographisches System, um dasselbe auszuführen.
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