发明名称 气体之分离精制方法及其装置
摘要 本发明系关于一种气体之分离精制方法及其装置,其系能够藉由PSA制程,而效率良好地回收该使用作为半导体制造装置等之气氛气体之氪或氙等之高附加价值气体。本发明之气体之分离精制方法,系藉由压力变动式吸附分离法而对于以包含高附加价值气体之混合气体作为原料气体之前述高附加价值气体进行分离精制之方法,其中,作为前述压力变动式吸附分离法,系藉由组合根据平衡式吸附量差而分离气体成分之平衡型压力变动式吸附分离法、和根据吸附式速度差而分离气体成分之速度型压力变动式吸附分离法,以便对于前述高附加价值气体进行分离精制。
申请公布号 TW495371 申请公布日期 2002.07.21
申请号 TW090126088 申请日期 2001.10.19
申请人 氧气股份有限公司 发明人 川井 雅人;中村章宽;长彻;林田茂
分类号 B01D53/00 主分类号 B01D53/00
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号一一一二室;宿希成 台北巿南京东路三段三四六号一一一二室
主权项 1.一种气体之分离精制方法,系藉由压力变动式吸附分离法而对于以包含高附加价値气体之混合气体作为原料气体之前述高附加价値气体进行分离精制者,其特征为:作为前述压力变动式吸附分离法,系藉由组合根据平衡式吸附量差而分离气体成分之平衡型压力变动式吸附分离法、和根据附式速度差而分离气体成分之速度型压力变动式吸附分离法,以便对于前述高附加价値气体,进行分离精制。2.如申请专利范围第1项之气体之分离精制方法,其中,藉由前述平衡型压力变动式吸附分离法,以分离前述原料气体成为易吸附成分和难吸附成分,并且,以该平衡型压力变动式吸附分离法中之前述难吸附成分,而释出作为排气,同时藉由前述速度型压力变动式吸附分离法,以分离该平衡型压力变动式吸附分离法中之前述易吸附成分成为易吸附成分和难吸附成分,并且,采取该速度型压力变动式吸附分离法中之前述难吸附成分以作为制品气体。3.如申请专利范围第2项之气体之分离精制方法,其中,在前述平衡型压力变动式吸附分离法中,进行循环再分离前述速度型压力变动式吸附分离法中之前述易吸附成分。4.如申请专利范围第1项之气体之分离精制方法,其中,藉由前述速度型压力变动式吸附分离法,以分离前述原料气体成为易吸附成分和难吸附成分,并且,采取该速度型压力变动式吸附分离法中之前述难吸附成分以作为制品气体,同时藉由前述平衡型压力变动式吸附分离法,以分离该速度型压力变动式吸附分离法中之前述易吸附成分成为易吸附成分和难吸附成分,并且,释出该平衡型压力变动式吸附分离法中之前述难吸附成分以作为排气。5.如申请专利范围第4项之气体之分离精制方法,其中,在前述速度型压力变动式吸附分离法中,进行循环再分离前述平衡型压力变动式吸附分离法中之前述易吸附成分。6.如申请专利范围第1项之气体之分离精制方法,其中,藉由前述速度型压力变动式吸附分离法,以分离前述原料气体成为易吸附成分和难吸附成分,并且,释出该速度型压力变动式吸附分离法中之前述易吸附成分以作为排气体,同时藉由前述平衡型压力变动式吸附分离法,以分离该速度型压力变动式吸附分离法中之前述难吸附成分成为易吸附成分和难吸附成分,并且,采取该平衡型压力变动式吸附分离法中之前述易吸附成分以作为制品气体。7.如申请专利范围第6项之气体之分离精制方法,其中,在前述速度型压力变动式吸附分离法中,进行循环再分离前述平衡型压力变动式吸附分离法中之前述难吸附成分。8.如申请专利范围第1项之气体之分离精制方法,其中,藉由前述平衡型压力变动式吸附分离法,以分离前述原料气体之一部分成为易吸附成分和难吸附成分,并且,释出该平衡型压力变动式吸附分离法中之前述难吸附成分以作为排气,同时混合该平衡型压力变动式吸附分离法中之前述易吸附成分和前述原料气体,藉由前述速度型压力变动式吸附分离法以分离前述原料气体之残余部,成为易吸附成分和难吸附成分,并且,采取该速度型压力变动式吸附分离法中之前述难吸附成分以作为制品气体,同时,混合该速度型压力变动式吸附分离法中之前述易吸寸成分和前述原料气体。9.如申请专利范围第1项之气体之分离精制方法,其中,对于前述原料气体,进行升压,而分别供应至前述平衡型压力变动式吸附分离法和前述速度型压力变动式吸附分离法中,并且,混合前述平衡型压力变动式吸附分离法中之前述易吸附成分和前述速度型压力变动式吸附分离法中之前述易吸附成分以及升压前之原料气体。10.一种气体之分离精制装置,系藉由压力变动式吸附分离装置而对于以包含高附加价値气体之混合气体作为原料气体之前述高附加价値气体进行分离精制者,其特征为:作为前述压力变动式吸附分离装置,系具有根据平衡式吸附量差而分离气体成分之平衡型压力变动式吸附分离装置和根据吸附式速度差而分离气体成分之速度型压力变动式吸附分离装置。11.如申请专利范围第10项之气体之分离精制装置,其中,以前述平衡型压力变动式吸附分离装置作为前段,以前述速度型压力变动式吸附分离装置作为后段,而呈串联地组合,同时,在前段之前述平衡型压力变动式吸附分离装置,设置用以导出作为排气之该平衡型压力变动式吸附分离装置中之难吸附成分的通路、以及用以将该平衡型压力变动式吸附分离装置中之易吸附成分导入至后段之前述速度型压力变动式吸附分离装置中的通路,在后段之前述速度型压力变动式吸附分离装置,设置用以导出作为制品气体之该速度型压力变动式吸附分离装置中之难吸附成分的通路、以及用以将该速度型压力变动式吸附分离装置中之易吸附成分循环至前段之前述平衡型压力变动式吸附分离装置之原料气体供应用部位中的通路。12.如申请专利范围第10项之气体之分离精制装置,其中,具有使得前述原料气体呈分叉而分别供应至前述平衡型压力变动式吸附分离装置和前述速度型压力变动式吸附分离装置中的通路、在供应至前述速度型压力变动式吸附分离装置之原料气体中而混合前述平衡型压力变动式吸附分离装置中之易吸附成分的通路、及在供应至前述平衡型压力变动式吸附分离装置之原料气体中而混合前述速度型压力变动式吸附分离装置中之易吸附成分的通路。13.如申请专利范围第10.11或12项之气体之分离精制装置,其中,前述平衡型压力变动式吸附分离装置系使用活性碳作为吸附剂。14.如申请专利范围第10.11或12项之气体之分离精制装置,其中,前述速度型压力变动式吸附分离装置系使用Na-A型沸石或碳分子筛作为吸附剂。15.如申请专利范围第10.11或12项之气体之分离精制装置,其中,前述高附加价値气体系为氪或氙中之至少一种。图式简单说明:图1系显示本发明之气体分离精制装置之第1形态例之系统图。图2系活性碳中之氪、氙和氮之吸附等温线图。图3系沸石4A中之氪和氮之吸附等温线图。图4系显示沸石4A中之氪和氮之吸附速度之图式。图5系显示本发明之气体分离精制装置之第2形态例之系统图。图6系显示本发明之气体分离精制装置之第3形态例之系统图。图7系显示本发明之气体分离精制装置之第4形态例之系统图。图8系显示本发明之气体分离精制装置之第5形态例之系统图。图9系显示本发明之气体分离精制装置之第6形态例之系统图。
地址 日本
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