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经营范围
发明名称
半导体装置
摘要
一半导体装置系具有一第一传导类型的一第一及一第二主动区,其配置于一半导体基材上;一第二传导类型的一第三及一第四主动区,其配置于半导体基材上,第二及第四主动区分别具有大于第一及第三主动区尺寸之尺寸;一第一导电图案,其配置为与第一主动区相邻且具有一第一宽度;一第二导电图案,其配置为与第二主动区相邻且具有一大于第一宽度的第二宽度;一第三导电图案,其配置为与第三主动区相邻且具有一第三宽度;及一第四导电图案,其配置为与第四主动区相邻且具有一小于第三宽度的第四宽度。
申请公布号
TW200937637
申请公布日期
2009.09.01
申请号
TW097147990
申请日期
2008.12.10
申请人
富士通微电子股份有限公司
发明人
三谷纯一;中井聪;藤田和司
分类号
H01L29/78(2006.01);H01L21/336(2006.01);H01L21/762(2006.01)
主分类号
H01L29/78(2006.01)
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
日本
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