等离子体显示板电极的薄膜光刻制造方法及其产品

摘要

本发明针对薄膜光刻技术制备金属电极中，热压感光干膜工艺容易在感光干膜与基板之间残留气泡，进而在接触式曝光中气泡被放大，从而使基板上的电极出现大量缺陷的问题，公开了一种可降低感光性干膜与基板之间残留的气泡对基板质量的影响的基于薄膜金属电极的制备方法及利用该电极所制造的等离子体显示板，其特征所述的前板电极组(2)和后板电极组(6)采用金属电极，并用薄膜光刻技术制备，所述的薄膜光刻技术在显影工艺结束后，增加了二次热压干膜工艺。它具有工艺简单，效率高，成品率高，成本低的优点。

主权项

1、一种等离子体显示板电极的薄膜光刻制造方法，包括前基板电极组和后基板电极组，它们均依次由以下步骤制造而成：(一)薄膜电极的蒸镀；(二)感光材料的涂覆；(三)感光性材料的曝光；(四)感光性材料的显影；(五)感光性材料的固化；(六)薄膜电极的蚀刻；(七)感光性材料的去除；其中第(二)步的感光材料的涂覆采用干膜热压，第(三)步的感光性材料的曝光采用接触式曝光机进行曝光，其特征是在第(四)步感光性材料的显影和第(五)步感光性材料的固化之间增加一干膜热压工序，即将在第(四)步感光性材料的显影后所得的干膜再次采用热压法进行二次热压，以消除所述第(四)步所得的干膜与基板之间的残留气泡。