| 发明名称 | 溅射金属膜机台 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种溅射金属膜机台，为了利用现有溅射金属膜机台进行生成TiN的工艺反应，该机台包括：腔体11，腔体11外接用于引入氩气气体的管路12和用于引入去除腔体真空的氮气气体的管路13，管路12上串接开关121，管路13上串接开关132，管路13的靠近腔体部分131一端与腔体11相连，另一端通过三通接头14连接管路13的远离腔体部分133和用于引入用于反应的氮气气体的管路15，管路15上串接开关151，开关121和开关151与联动机构16相连，开关132串接于管路13的远离腔体部分133，由于新增管路15，使得改造后的溅射金属膜机台能够接入N2反应气体，并进行生成TiN的工艺反应。 | ||
| 申请公布号 | CN201217691Y | 申请公布日期 | 2009.04.08 |
| 申请号 | CN200820080242.6 | 申请日期 | 2008.04.28 |
| 申请人 | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 | 发明人 | 肖士悦;崔晓娟;禤亮;张明才 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郭润湘 |
| 主权项 | 1、一种溅射金属膜机台，包括：用于进行工艺反应的腔体(11)，腔体(11)外接用于引入氩气气体的管路(12)和用于引入去除腔体真空的氮气气体的管路(13)，管路(12)上串接开关(121)，管路(13)上串接开关(132)，其特征在于，管路(13)的靠近腔体部分(131)一端与腔体(11)相连，另一端通过三通接头(14)连接管路(13)的远离腔体部分(133)和用于引入用于反应的氮气气体的管路(15)，管路(15)上串接开关(151)，开关(121)和开关(151)与联动机构(16)相连，所述联动机构(16)用于当开关(121)打开时，打开开关(151)，当开关(121)关闭时，关闭开关(151)，开关(132)串接于管路(13)的远离腔体部分(133)。 | ||
| 地址 | 100871北京市海淀区成府路298号中关村方正大厦513 | ||