微影方法及以该方法制造的装置

摘要

本发明揭示一种基板之基板处理方法，该基板具备一延伸至或超过该基板之一周边边缘的抗反射涂层。该方法包括：使用一背侧移除过程来移除邻近于且围绕该基板之一周边的该抗反射涂层之一部分；将一辐射敏感材料层沈积至该抗反射涂层上；将一顶部涂层沈积至该辐射敏感材料层上；及使用一顶侧移除过程而自一邻近于该基板之该周边的区域周围同时移除该辐射敏感材料层之一部分及该顶部涂层之一部分。