| 发明名称 | 基片处理设备 | ||
| 摘要 | 基片处理设备包括用于接纳各自存放多张基片的整体容器的存放区、用于整体地处理多张基片的第一处理区、用于一次处理一张基片的第二处理区、以及用于在整体容器、第一处理区和第二处理区之间输送诸基片的输送装置。可以按整体地处理多张基片的方式和/或一次处理一张基片的方式处理基片。 | ||
| 申请公布号 | CN100452340C | 申请公布日期 | 2009.01.14 |
| 申请号 | CN200510137082.5 | 申请日期 | 2005.12.23 |
| 申请人 | 日本网目版制造株式会社 | 发明人 | 佐野谦一;永见宗三;光吉一郎;酒井泷吉 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01);H01L21/00(2006.01);B08B3/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/67(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 张兰英 |
| 主权项 | 1.一基片处理设备，该设备包括：一容器台，用于支持存放多张基片的一容器；一基片处理区，包括用于整体地清洁和干燥多张基片的一第一处理部分、以及用于对多张基片一次清洁和干燥一张基片的一第二处理部分；一包括输送机构的输送区，所述输送区的输送机构用于将所述基片从所述容器台输送到所述第一处理部分和将所述基片从所述容器台输送到所述第二处理部分；以及一控制装置，用于根据基片处理状态，控制用于将所述基片从所述容器台输送到所述第一处理部分和所述第二处理部分之一的所述输送区的输送机构的一输送操作。 | ||
| 地址 | 日本京都府 | ||