用于具有基本设计限制的集成电路的技术迁移的方法和系统

摘要

本发明公开了一种用于使集成电路(IC)设计从没有基本设计限制(RDR)的源技术迁移至具有RDR的目标技术的系统、方法和程序产品。本发明实现满足RDR需求的最小布图扰动方法。本发明还解决了插入需要的虚拟形状并延伸关键形状和/或虚拟形状的长度以满足“边缘覆盖度”需求的问题。

主权项

1.一种用于使集成电路IC设计布图从没有基本设计限制RDR的源技术迁移至具有RDR的目标技术的方法，该方法包括以下步骤：认证步骤，认证设计布图，以满足RDR栅格约束并在第一方向上固定任意基本规则违规，其中所述认证步骤包括：计算步骤，利用最小布图扰动，同时满足所述RDR栅格约束，计算多个关键形状中每一个的目标间距上的位置；以及通过将关键形状的目标间距上位置作为多个关键形状和设计布图边界之间的一组基本规则间隔约束，作为线性规划问题认证所述设计布图，以及其中所述计算步骤包括：产生步骤，产生模拟多个关键形状和其邻近关系的边缘加权图形；以及确定步骤，通过首先布置具有较小松弛值的关键形状，使用所述边缘加权图形，在第一方向上确定所述多个关键形状的目标栅格位置；插入需要的虚拟形状；以及运行最小扰动分析，以便满足至少一个关键形状的边缘覆盖度需求并在第二方向上固定任意基本规则违规。