| 发明名称 | 等离子体表面处理的方法以及实现该方法的设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种等离子体表面处理方法，用于待处理对象或粒子的表面，包括制造等离子体，将等离子体应用到待处理表面，本发明方法的特征在于待处理表面被激励或者等离子体被声频地振动，使得待处理表面和等离子体之间产生相对波动。 | ||
| 申请公布号 | CN100437883C | 申请公布日期 | 2008.11.26 |
| 申请号 | CN02807383.5 | 申请日期 | 2002.03.26 |
| 申请人 | APIT股份有限公司 | 发明人 | 帕维尔·库里克;米克海尔·萨姆索诺夫;亚历山大·切列帕诺夫;叶夫根尼·彼得罗夫 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01) | 主分类号 | H01J37/32(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1.待处理对象的待处理表面的等离子体处理方法，包括制造等离子体，将等离子体应用到待处理表面，其特征在于待处理表面被激励或者等离子体声频地振动，使得待处理表面和等离子体之间产生相对波形运动，激励待处理表面的能量由等离子体制造过程来提供，并且来自于在其制造期间在等离子体波前形成的冲击波。 | ||
| 地址 | 瑞士锡永 | ||