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发明名称 A CLEANING SOLUTION AND ITS USE
摘要 <p>A cleaning solution is provided, which includes at least one type of oxidizer, at least one type of guanidine compound and water. The use of the cleaning solution in wafer cleaning after CMP is also provided.</p>
申请公布号 WO2008116379(A1) 申请公布日期 2008.10.02
申请号 WO2008CN00510 申请日期 2008.03.14
申请人 ANJI MICROELECTRONICS (SHANGHAI) CO., LTD.;JING, JUDY, JIANFEN;YANG, ANDY, CHUNXIAO 发明人 JING, JUDY, JIANFEN;YANG, ANDY, CHUNXIAO
分类号 C11D7/32;C11D7/18;H01L21/302 主分类号 C11D7/32
代理机构 代理人
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