位置测量设备，成像设备，曝光设备，及装置制造方法

摘要

一种曝光设备，系实施光罩与基板之间相对调正及经由形成于该光罩上之图案而曝光该基板。该曝光设备包括一可移动平台，其承载该光罩及该基板之一；及一位置测量设备，其测量该光罩及该基板之至少之一的位置。该位置测量设备包括一照明单元，用于朝一标示发光，该标示表示该光罩或该基板之该位置；一光强度测量单元，用于测量该光的强度；一成像单元，用于捕捉该标示的影像；一平台位置测量单元，用于测量该平台的位置；及一信号波形校正单元，用于依据平台位置的变化及照明光强度的变化而校正从该成像单元输出的信号波形。